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亚美体育凭借lithoscale将无掩模光刻技术带入大批量生产

lithoscale® 集成了EVG的MLE™(无掩模曝光)技术,为广泛的应用和市场带来数字光刻的好处

lithoscale® 使用无口罩方法消除与口罩相关的消耗品, 它的可调谐固态激光曝光源设计为高冗余和长寿命稳定性,几乎无需维护和重新校准.

的lithoscale® 亚美体育生产的无掩模曝光系统,将数字光刻技术的优势应用到大批量生产中.

ST. florian2020年9月22日,奥地利亚美体育在线网页(EVG), mems晶圆键合和光刻设备的领先供应商, 纳米技术及半导体市场, 今天介绍了lithoscale® 无面罩曝光系统-第一个具有EVG革命性MLE™(无面罩曝光)技术的产品平台. lithoscale由EVG公司开发,以满足需要高度灵活性或产品变化的市场和应用的光刻需求, 包括先进的包装, mems, 生物医学和IC基板制造. lithoscale结合了高分辨率和无曝光场限制, 强大的数字处理功能,可实现实时数据传输和即时曝光, 一个高度可扩展的设计. 其结果是世界上第一个用于大批量生产(HVM)的无掩模光刻系统,与市场上现有的无掩模曝光系统相比,其吞吐量增加了5倍. EVG已经收到了多个lithoscale的订单,并将在今年晚些时候开始向客户运送系统.

公司高层将在台湾SEMICON讨论lithoscale, 将于本周在台北南港展览中心举行, 9月23-25日1号厅(TaiNEX 1).

光刻技术的新要求

三维集成和异质集成对于实现半导体器件性能的持续改进越来越重要. 这导致了封装复杂性的增加以及封装可选数量的增加——驱动了对更大的设计灵活性的需求,以及在后端光刻中同时采用模级和晶圆级设计的能力. mems制造由于其复杂的产品组合,也对光刻技术提出了挑战, 是什么提高了掩模/网线的间接成本. IC基板和生物医学市场, 对更高程度的模式灵活性的需求正在增长,以解决广泛的特性和基板尺寸. 快速原型技术在生物技术应用中也变得越来越重要, 驱动需要更灵活, 可扩展和“准备就绪”光刻方法.

传统的掩模光刻解决方案在这些应用中并不实用, 特别是那些需要快速原型和测试新产品设计或高度定制的解决方案, 生产所需的成本和时间在哪里, 测试和返工大量的掩模组可以迅速增加. additionally, 先进的包装, 现有的后端光刻系统存在非线性问题, 高阶基板变形和模移相关问题, 特别是扇出式晶圆级封装(FOWLP)晶圆的模具重构后。. 与此同时, 现有的无掩模光刻方法不能提供速度的组合, HVM环境必需的分辨率和易用性.

lithoscale解决了设计灵活性的需求, 高可扩展性和生产力, 而且拥有成本低. 它的无口罩方法消除了与口罩相关的消耗品, 而可调谐固态激光曝光源是为高冗余和长寿命稳定性设计的,几乎无需维护和重新校准. 强大的数字处理实现实时数据传输和即时曝光,避免了其他无掩模光刻系统所需的每个数字掩模布局的设置时间数小时. 该系统可进行单独的模具加工, 而快速的全场定位和动态对齐使一系列基板尺寸和形状的高可扩展性. 其结果是一个高度通用的无掩模光刻平台面向各种微电子生产应用.

“lithoscale是EVG的一项重大成就,它稳固了亚美体育在线网页在光刻领域的技术领导地位,同时也为数字光刻打开了一扇新世界的大门,保罗·林德纳说, 亚美体育执行技术总监. “lithoscale从一开始就被设计成一个高度灵活和可扩展的平台, 是什么让大量设备制造商最终实现数字光刻的好处. 与亚美体育在线网页的客户和合作伙伴的演示表明,可以从lithoscale受益的应用程序范围广泛,而且每天都在增长.”

产品详细信息

lithoscale provides high-resolution (<2 microns L/S), 由于其强大的数字基础设施,在不影响吞吐量的情况下,整个基板表面的无缝合掩模曝光, 这使动态(“加载和走”)蒙版布局变化, 以及它的多曝光头配置, 这使得高并行处理能够最大化吞吐量. lithoscale能够为超过当前十字板尺寸的插入器生成一种无需缝合的图案,这对于高级图形处理所需的具有复杂布局的高级设备特别有用, 人工智能(AI)和高性能计算(HPC). 该系统的高精度与无畸变光学和舞台布置精度相匹配, 确保在整个基板上无缝投影. lithoscale还采用动态对齐模式和带有自动聚焦的模级补偿,使其能够适应基板材料和表面变化,并保持最佳的叠加性能. lithoscale可容纳各种衬底尺寸和形状(最高可达300毫米直径的晶圆以及矩形衬底,最高可达四分之一的面板)以及不同的衬底和抗蚀材料.

欲了解更多关于lithoscale和EVG的MLE技术的信息,请访问 http://www.EVGroup.com/Products/Lithography/LITHOSCALE-maskless-exposure-Lithography-systems/LITHOSCALE/.

EVG将展示lithoscale及其全套晶圆键合技术, 台湾赛米康的光刻和抗蚀剂加工解决方案. 有兴趣了解更多信息的与会者可以访问EVG展位#L0316.

关于亚美体育(EVG)

亚美体育(EVG)是一家领先的半导体制造设备和工艺解决方案供应商, 微机电系统(mems), 化合物半导体, 动力装置和纳米技术装置. 主要产品包括晶圆键合, thin-wafer处理, 光刻/纳米压印(NIL)和计量设备, 以及光刻胶涂层, 清洁和检查系统. 成立于1980年, 亚美体育为遍布全球的全球客户和合作伙伴提供服务和支持. 更多关于EVG的信息可以在 www.yeshitxt.com.

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